WikiDer > Проверка маски
В микротехнология, осмотр маски или же проверка фотошаблона это операция проверки правильности изготовленного фотошаблоны, используется, например, для изготовление полупроводниковых приборов.[1]
Современные технологии обнаружения дефектов в фотошаблонах - это автоматизированные системы, включающие сканирующая электронная микроскопия и другие продвинутые инструменты.[2]
Проверка данных маски
Термин «проверка маски» может также неофициально относиться к проверка данных маски шаг выполняется до фактического написания реальной маски.[3]В других методах обследования используются специально сконструированные системы световых микроскопов, например, доступные от Probing Solutions Inc. Они полагаются на белый свет, обычно оптимизированный на уровне примерно 538 нМ, и используют падающее яркое и темное поле, а также проходящее яркое и темное поле, чтобы увидеть булавку дыры, краевые дефекты и многие формы загрязнения и дефекты подложки.
Рекомендации
- ^ «Технология СБИС: основы и приложения», автор Ясуо Таруи, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Глава 4: «Технология проверки масок»
- ^ Веб-страница ZEISS, предлагающая инструменты для автоматического ремонта масок
- ^ «Дизайн для технологичности и производительности наноразмерных КМОП», Чарльз Чанг, Джамил Кава, 2007 г., ISBN 1-4020-5187-5, п. 237
 | Эта статья про электронику заглушка. Вы можете помочь Википедии расширяя это. |